寶雞市凱澤金屬材料有限公司，多年來專注于濺射靶材、真空鍍膜鈦、鎳、鋯、鉻靶材的生產及深加工，靶材廣泛應用于主營平板顯示器用靶材，鍍膜玻璃工業(yè)用靶材，電阻靶材，汽車車燈鍍膜用靶材等領域。有關鈦靶材的制備工藝方法，凱澤金屬結合10多年的生產經驗，結合有關資料，整理如下：

目前鈦靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。

鑄造法：將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金溶液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經機械加工制成靶材，鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等，其優(yōu)點是靶材雜質含量（特別是氣體雜質含量）低，密度高，可大型化；缺點是對熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。

粉末冶金法：將一定成分配比的合金原料熔煉，澆注成鑄錠后再粉碎，將粉碎形成的粉末經等靜壓成形，再高溫燒結，最終形成靶材，其優(yōu)點是靶材成分均勻；缺點是密度低，雜質含量高等，常用的粉末冶金工藝包括冷壓、真空熱壓和熱等靜壓等。

一、按材質：

靶材分為金屬靶材，陶瓷（氧化物、氮化物等）靶材，合金靶材。

二、按應用方向：

1、半導體關聯(lián)靶材：

電極、布線薄膜：鋁靶材，銅靶材，金靶材，銀靶材，鈀靶材，鉑靶材，鋁硅合金靶材，鋁硅銅合金靶材等。

儲存器電極薄膜：鉬靶材，鎢靶材，鈦靶材等。

粘附薄膜：鎢靶材，鈦靶材等。

電容器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸鉛靶材等。

2、磁記錄靶材：

垂直磁記錄薄膜：鈷鉻合金靶材等。

硬盤用薄膜：鈷鉻鉭合金靶材，鈷鉻鉑合金靶材，鈷鉻鉭鉑合金靶材等。

薄膜磁頭：鈷鉭鉻合金靶材，鈷鉻鋯合金靶材等。

人工晶體薄膜：鈷鉑合金靶材，鈷鈀合金靶材等。

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