鈦靶板（平面靶）憑借其大面積成膜能力與高純度特性，成為半導體、光學及工業(yè)涂層領(lǐng)域的核心材料。相較于鈦管靶，其邊緣損耗較高但兼容性更廣；與鈦合金靶相比，純度更高但需依賴復合背板提升散熱效率。選購時需嚴格把控純度、微觀結(jié)構(gòu)及供應(yīng)商工藝能力，使用中需優(yōu)化濺射參數(shù)與維護流程，以平衡鍍膜質(zhì)量與成本效益... 【詳情】

TA1鈦多弧靶憑借其高利用率、低成本及適配多弧工藝的特性，成為工業(yè)工具涂層與防腐鍍層的經(jīng)濟型選擇。相較于磁控濺射靶，其薄膜更致密但需后處理液滴；相較于高純鈦靶，雖雜質(zhì)較多但成本優(yōu)勢顯著。選購時需重點關(guān)注雜質(zhì)含量與晶粒均勻性，使用中需優(yōu)化電弧參數(shù)與基片偏壓。對于高端精密涂層... 【詳情】

TA1鈦平面靶憑借其低成本、易加工及適中的性能，成為工業(yè)防腐與裝飾鍍層的經(jīng)濟型選擇。其純度雖不及高純鈦靶，但通過工藝優(yōu)化（如磁場設(shè)計、濺射參數(shù)調(diào)整）可滿足一般工業(yè)需求。選購時需重點關(guān)注雜質(zhì)含量與幾何精度，應(yīng)用中需控制氧污染并定期維護。對于精密半導體或光學鍍膜，建議選用高純鈦靶；而在防腐、裝飾... 【詳情】

異形鈦靶材通過定制化設(shè)計解決了復雜結(jié)構(gòu)鍍膜的行業(yè)痛點，盡管初期成本與周期較高，但其在材料利用率、鍍膜精度上的優(yōu)勢顯著。選購時需緊密協(xié)同設(shè)計與工藝團隊，優(yōu)先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應(yīng)商，并通過小批量試制驗證可行性。在半導體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領(lǐng)域... 【詳情】

產(chǎn)品名稱：鈦板靶、鈦平面靶、鈦靶板品名：鈦合金靶板牌號：TC4 產(chǎn)地：寶雞 主要型式：圓靶/板靶/管靶牌號：TA1，TA2，TC4 圓靶：60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/4... 【詳情】

產(chǎn)品名稱：鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦靶塊，鈦塊牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執(zhí)行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】